加熱炉・乾燥炉

加熱炉・乾燥炉とは、基板実装工程におけるはんだペースト印刷後やコーティング工程後に必要な乾燥・硬化をさせるために用いられる装置のことです。均一な温度制御を行い、基板全体に熱を安定供給して製品品質を確保することが主な目的です。乾燥炉は湿気や溶剤を蒸発させるために使用され、基板や部品の損傷を防ぐために最適化された温度プロファイルを提供します。一方、加熱炉は特定の温度範囲での硬化・接着工程において、高い精度で熱処理を実行します。

主なタイプとしては、以下が挙げられます。

■熱風循環式
　熱風を循環させて均一な温度分布を実現します。はんだペーストの乾燥やコーティング硬化に最適です。
■赤外線
　赤外線のエネルギーを用いて迅速に加熱を行います。特に高速乾燥が求められるプロセスに最適です。
■ニトロゲン
　窒素ガスを使用して酸化を抑制しつつ高精度な温度制御が可能です。高信頼性が求められる製品に最適です。
■UV硬化
　紫外線を利用してコーティング剤や接着剤を短時間で硬化させます。効率的なプロセスに最適です。

精密な温度制御によって、基板全体の加熱や乾燥を均一に実施することが可能です。

はんだ付けの不良や塗布剤の硬化ムラを防止し、製品の信頼性を向上可能なところが最大の魅力です。省エネ設計の装置では、運用コストの削減も期待でき、自動化や大量生産が効率よく実現できます。

また、窒素ガス併用の装置では、酸化を抑えて高品質な仕上がりを実現し、高付加価値製品の製造に寄与します。そのため、基板実装工程全体の効率化に直結することから、生産性向上とコスト削減を両立させる利便性の高い設備として認識されています。

加熱炉・乾燥炉を上手に活用するためには、プロセス全体を考慮した運用が最も重要です。

装置の均熱性を活かして部品や基板ごとの適切な温度プロファイルを設計することにより、高品質な結果が導き出されます。特に予備加熱から本加熱までの段階を最適化すると、はんだの付着性や乾燥プロセスの効率を向上させることが可能となります。装置の特性を最大限に引き出すためには、搬送スピードや加熱時間を製品の種類に応じて調整することが非常に有効です。これにより、不良率の低減と安定した製造プロセスを実現することができます。

また、特殊な基板や環境条件に対応するためには、窒素制御や赤外線加熱技術などの装置機能を活用することもポイントです。基板実装の各工程に合わせて実践することにより、加熱炉・乾燥炉のパフォーマンスを最大限に発揮し、生産効率と品質の両立を目指すことができます。