静止型リフロー装置 RDT-250C(卓上型)
静止型の卓上タイプのリフロー装置。
窒素を使用することでのN2対応も可能となります。
窓からの観察が可能な卓上タイプのリフロー炉で鉛フリーはんだ実装プロファイルを簡単に実現します。
主に試作品や少量多品種などで大型のリフロー装置を導入するまではいかないといったユーザー様にご好評を頂いております。
窒素を使用することでのN2対応も可能となります。
窓からの観察が可能な卓上タイプのリフロー炉で鉛フリーはんだ実装プロファイルを簡単に実現します。
主に試作品や少量多品種などで大型のリフロー装置を導入するまではいかないといったユーザー様にご好評を頂いております。
特長
リフロー装置は必要でも設置場所のスペースが足りない、試作品や少量多品種などの少ない数量での生産のために大型リフロー装置を導入は出来ないなどといった場合にも最適な機種となります。
■ 鉛フリーはんだ実装における基板・電子部品の温度プロファイル条件を短時間で作成・切替が可能なため、開発試作・少量多品種生産などに対応できます。
■ 独自の上面熱風マトリックス制御により基板実装で低いデルタtを実現できます。
■ 窒素雰囲気でのリフロー加熱はもちろん、冷却時も窒素雰囲気で行い強制冷却など様々な設定ができます。(オートクーリング仕様)
■ 前後にあるガラス窓(オプションにて上面観察も可能)からはんだ付けの様子がビデオ観察システム<VDM-1>を用いて観察することができます。
■ 試作品や少量多品種といった実装基板の生産にも対応可能です。